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又稱為四氟甲烷、Freon-14及R 14，是一種鹵代烴(化學式：CF4)
四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量 的等離子蝕刻氣體，其高純氣及四氟化碳高純氣配高純氧氣的混合氣，可廣泛應用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻，在電子器件表面清洗、太陽能電池的生產、激光技術、氣相絕緣、低溫制冷、泄漏檢驗劑、控制宇宙火箭姿態(tài)、印刷電路生產中的去污劑等方面也大量使用。
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